ASTM F1527-02 規格と仕様

規格番号: ASTM F1527-02
制定年: 1970
出版団体: /
最新版: ASTM F1527-02

範囲: 1.1 このガイドでは、シリコンウェーハの抵抗率測定における認定標準物質 (CRM) のアプリケーションについて説明します。具体的には、このガイドでは、抵抗率基準ウェーハを準備するため、およびそれらを準備するために使用される機器の品質を保証するためのこれらの CRM の使用について説明します。 1.2 このガイドは、シリコン以外の電子材料への適用については評価されていません。 1.3 このガイドでは、比抵抗基準ウェーハの材料の選択、比抵抗基準ウェーハの準備と校正手順、およびさまざまな種類の比抵抗計器の認定、校正、および制御における比抵抗基準ウェーハの使用について説明します。 1.4 このガイドは、シリコン抵抗率基準材料の抵抗率を決定するための機器の選択基準、統計的品質管理においてそのような機器を維持するための手順、および抵抗率基準ウェーハの製造および使用に従事するオペレータのトレーニング要件を提供します。 1.5 付録には、(1) 管理図作成手順をまだ導入していない組織向けに推奨される管理図作成手順、および (2) ウェーハ直径、ウェーハ厚さ、およびプローブチップの間隔の不確実性から生じる抵抗率決定の誤差について説明するものが含まれています。 1.6 この規格は、その使用に関連する安全上の懸念がある場合、そのすべてに対処することを目的とするものではありません。適切な安全衛生慣行を確立し、使用前に規制上の制限の適用可能性を判断することは、この規格のユーザーの責任です。

ASTM F1527-02 規範的参照

ASTM D5127 電子・半導体産業用超純水の規格ガイド*， 1999-04-09 更新するには
ASTM F1241
ASTM F1392
ASTM F1393 フライス盤フィードバックマスターツール水銀プローブ付き測定機を使用したシリコン内の正味キャリア密度測定の試験方法*， 1992-04-09 更新するには
ASTM F1529 デュアル構成手順によるインライン 4 点プローブによるシート抵抗均一性評価の標準試験方法 (2003 年廃止)*， 1997-12-05 更新するには
ASTM F1530 自動非接触スキャンによりシリコンウェーハの平坦度、厚さ、厚さのばらつきを測定する標準的な検査方法*， 1994-04-09 更新するには
ASTM F1618 シリコンウェーハ上の薄膜の均一性を判断するための標準的な手法*， 1996-04-09 更新するには
ASTM F2074
ASTM F43
ASTM F525
ASTM F533 シリコンウェーハの厚さおよび厚さばらつきの標準的な試験方法*， 1996-04-09 更新するには
ASTM F672 分布抵抗プローブを使用して、表面に垂直な縦断面のシリコンウェーハの抵抗率を測定する標準的な試験方法*， 1988-04-09 更新するには
ASTM F673 非接触渦電流計を使用して半導体ダイアフラムの抵抗率を測定する標準的な試験方法*， 1990-04-09 更新するには
ASTM F723
ASTM F81
ASTM F84
ISO 10012-1 計測機器の品質保証要求事項第1部：計測機器の計量確認制度*， 1992-01-01 更新するには
ISO 8402 品質管理と品質保証。*， 1994-03-24 更新するには

ASTM F1527-02 発売履歴

1970 ASTM F1527-02
2000 ASTM F1527-00 シリコン抵抗率測定器の校正および制御におけるシリコン標準物質および標準シリコンウェーハの使用に関する標準ガイド