GB/T 17473.2-2008
マイクロエレクトロニクス技術で使用される貴金属スラリーの試験方法 粉末度の測定 (英語版)

規格番号
GB/T 17473.2-2008
言語
中国語版, 英語で利用可能
制定年
2008
出版団体
General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China
最新版
GB/T 17473.2-2008
交換する
GB/T 17473.2-1998
範囲
この部分では、マイクロエレクトロニクス技術で使用される貴金属ペーストの細かさをスクレーパーで決定する方法を規定します。 このセクションは、マイクロエレクトロニクス技術で使用される貴金属ペーストの細かさの決定に適用されます。

GB/T 17473.2-2008 規範的参照

  • GB/T 8170 数値の丸め規則と極値の表現と決定*2008-07-16 更新するには

GB/T 17473.2-2008 発売履歴

  • 2008 GB/T 17473.2-2008 マイクロエレクトロニクス技術で使用される貴金属スラリーの試験方法 粉末度の測定
  • 1998 GB/T 17473.2-1998 厚膜マイクロエレクトロニクス技術用の貴金属スラリーの粉末度測定の試験方法
マイクロエレクトロニクス技術で使用される貴金属スラリーの試験方法 粉末度の測定

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