GB/T 12965-2005
シリコン単結晶カッティングディスクおよびグラインディングディスク (英語版)
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GB/T 12965-2005
規格番号
GB/T 12965-2005
言語
中国語版,
英語で利用可能
制定年
2005
出版団体
General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China
状態
入れ替わる
2019-06
に置き換えられる
GB/T 12965-2018
最新版
GB/T 12965-2018
交換する
GB/T 12965-1996
範囲
この規格は、シリコン単結晶切断・研削ウェーハ(略してシリコンウェーハ)の製品分類、用語、技術的要件、試験方法、検査規則、標識、梱包、輸送、保管等を規定したものです。 この規格は、チョクラルスキー法、サスペンションゾーン溶融法および中性子変換ドープシリコン単結晶からの切断および両面研削によって製造された円形シリコンウェーハに適用されます。 この製品は主に、トランジスタや整流器デバイスなどの半導体デバイスの製造、またはさらに研磨されたウェーハに加工されるために使用されます。
GB/T 12965-2005 規範的参照
GB/T 1550
外部半導体材料の導電型の試験方法
*
,
2018-12-28 更新するには
GB/T 1552
インライン四探針法によるシリコンおよびゲルマニウム単結晶の抵抗率測定
GB/T 1554
シリコン結晶の完全性を評価する化学優先腐食試験方法
*
,
2009-10-30 更新するには
GB/T 1555
半導体単結晶の結晶方位判定方法
*
,
2023-08-06 更新するには
GB/T 2828.1
目録抜き取り検査手順その1:合格品質限界(AQL)から探すロットごとの抜き取り検査計画
*
,
2013-02-15 更新するには
GB/T 12965-2005 発売履歴
2018
GB/T 12965-2018
シリコン単結晶カッティングディスクおよびグラインディングディスク
2005
GB/T 12965-2005
シリコン単結晶カッティングディスクおよびグラインディングディスク
1996
GB/T 12965-1996
シリコン単結晶カッティングディスクおよびグラインディングディスク
0000
GB 12965-1991
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