VDI/VDE 5575 Blatt 2-2015 光線光学系の測定方法 X線光学系の評価装置および評価方法規格と仕様

範囲: この規格には、X 線光学システムを評価するための測定セットアップと方法が記載されています。 X 線の幾何学的特性を特徴付ける方法と、そのスペクトル分析のアプローチについて説明します。測定セットアップを明確に説明するための座標系が定義されています。さまざまな測定タスクに適した位置決めおよび検出器システムが指定されています。一般的な X 線源の概要を示します。測定に関連するさまざまな X 線源の典型的な特性について説明します。

VDI/VDE 5575 Blatt 2-2015 規範的参照

DIN 5030-1:1985 放射線のスペクトル測定、用語、量、特性パラメータ
DIN 5030-3:1984 放射線のスペクトル測定、スペクトル分離、定義と特徴
DIN EN 12543-1:1999 非破壊検査工業用非破壊検査用X線装置の焦点の特徴その1 スキャン方式
DIN EN 12543-2:2008 非破壊検査非破壊検査用工業用X線装置の焦点の特徴第2部ピンホールカメラX線撮影
DIN EN 12543-5:1999 非破壊検査非破壊検査用工業用 X 線システムの焦点の特性パート 5: 最小および最大焦点 X 線管の有効焦点サイズの測定
DIN EN ISO 11146-1:2005 レーザーおよびレーザー関連機器レーザー光線幅、発散角、光線拡散率の試験方法第 1 部：無乱視光線および簡易乱視光線
DIN EN ISO 15367-2:2005 レーザーおよびレーザー関連機器レーザービームの波面形状を決定するための試験方法パート 2: シャックハルトマンセンサー
VDI 1000-2010 VDI ガイドラインの作業原則と手順
VDI/VDE 5575 Blatt 1-2009 光線光学系の用語と定義
VDI/VDE 5575 Blatt 4-2011 光線光学系 X線ミラー全反射ミラーおよび多層膜ミラー
VDI/VDE 5575 Blatt 8-2013 光線光学系モノクロメーター結晶