ASTM E2244-11e1
光学干渉法を使用して反射フィルムの共面長を測定するための標準的な試験方法
- 規格番号
- ASTM E2244-11e1
- 制定年
- 2011
- 出版団体
- American Society for Testing and Materials (ASTM)
- 状態
- に置き換えられる
- ASTM E2244-11(2018)
- 最新版
- ASTM E2244-11(2018)
- 範囲
- 5.1 面内長さの測定は、残留ひずみやヤング率などのパラメータの計算に使用できます。 5.2 特定のテスト構造では面内たわみ測定が必要です。 残留ひずみを含むパラメータは、面内たわみの測定値に基づいて計算されます。 1.1 この試験方法では、パターン化された薄膜の面内長さ (たわみを含む) を測定する手順を説明します。 これは、微小電気機械システム (MEMS) 材料に見られるような、光学干渉計 (干渉顕微鏡とも呼ばれる) を使用して画像化できるフィルムにのみ適用されます。 1.2&# 面内長さを決定する他の方法もあります。 通常、設計寸法を使用すると、光学干渉顕微鏡で取得した測定値を使用するよりも正確な面内長さの値が得られます。 (干渉測定は通常、光学顕微鏡での測定よりも正確です。 ) この試験方法は、設計寸法を使用するよりも干渉測定が優先される場合 (たとえば、面内たわみを測定する場合や、実証されていない領域で長さを測定する場合) に使用することを目的としています。 製造工程）。 1.3&# このテスト方法では、地形的な 3D データセットを取得できる非接触光学干渉顕微鏡を使用します。 それは実験室で行われます。 1.4 測定される最大面内長さは、最低倍率での干渉顕微鏡の最大視野によって決まります。 測定される最小偏向は、最高倍率での干渉顕微鏡のピクセル間の間隔によって決まります。 1.5&# この規格は、その使用に関連する安全上の懸念がある場合、そのすべてに対処することを目的とするものではありません。 適切な安全衛生慣行を確立し、使用前に規制上の制限の適用可能性を判断することは、この規格のユーザーの責任です。
ASTM E2244-11e1 規範的参照
- ASTM E2245 光干渉法を使用して反射膜の残留歪みを測定するための標準的な試験方法
- ASTM E2246 光学干渉法を使用して反射フィルムのひずみ勾配を測定するための標準的な試験方法
- ASTM E2444 反射膜の測定に関する用語
- ASTM E2530 Si(111) 単一原子レベルを使用したサブナノメートル変位による原子間力顕微鏡の Z 倍率校正の標準手順
ASTM E2244-11e1 発売履歴
- 2018 ASTM E2244-11(2018) 光学干渉計を用いた薄膜反射膜の面内長さを測定する標準的な試験方法
- 2011 ASTM E2244-11e1 光学干渉法を使用して反射フィルムの共面長を測定するための標準的な試験方法
- 2011 ASTM E2244-11 光学干渉計を用いた薄膜反射膜の面内長さを測定する標準的な試験方法
- 2005 ASTM E2244-05 光学干渉計を用いた薄膜反射膜の面内長さを測定する標準的な試験方法
- 2002 ASTM E2244-02 光学干渉計を使用して反射膜の共面長を測定するための標準的な試験方法
