YS/T 719-2009
平面マグネトロンスパッタリングターゲット、光学薄膜用シリコンターゲット (英語版)
- 規格番号
- YS/T 719-2009
- 言語
- 中国語版, 英語で利用可能
- 制定年
- 2009
- 出版団体
- Professional Standard - Non-ferrous Metal
- 最新版
- YS/T 719-2009
- 範囲
- この規格は、平面マグネトロンスパッタリング光学膜に使用されるシリコンターゲットの要件、試験方法、検査規則、マーキング、梱包、輸送、保管、注文書（契約）内容を規定しています。 この規格は、光学薄膜の平面マグネトロン スパッタリング用のシリコン ターゲットに適用されます。
YS/T 719-2009 規範的参照
- GB/T 12963-2009 シリコン多結晶
- GB/T 1551-2009 シリコン単結晶の抵抗率測定方法
- GB/T 2040-2008 銅及び銅合金板
- GB/T 5231-2001 銅及び銅合金の加工化学成分と製品形状
YS/T 719-2009 発売履歴
- 2009 YS/T 719-2009 平面マグネトロンスパッタリングターゲット、光学薄膜用シリコンターゲット
