ASTM E1438-06
二次イオン質量分析法 (SIMS) によるディープドーピングプロファイルの界面幅測定の標準ガイド
- 規格番号
- ASTM E1438-06
- 制定年
- 2006
- 出版団体
- American Society for Testing and Materials (ASTM)
- 状態
- に置き換えられる
- ASTM E1438-11
- 最新版
- ASTM E1438-11(2019)
- 範囲
- 標準サンプルとこのガイドを使用して、未知のサンプルのプロファイル歪みの程度を測定することが望ましいですが、界面幅 (プロファイル歪み) の測定は、サンプル組成ごとに固有になる可能性があります (1、2、3)。 このガイドでは、選択された一連の動作条件に対して特定のインターフェイスの一意の幅を決定する方法が説明されています。 これは主に、機器の適切な性能、一貫した性能、あるいはその両方をチェックする方法を提供することを目的としています。 このガイドに従って、同じサンプルを定期的に分析し、その後界面幅を測定することで、これらのチェックが行われます。 このガイドで説明されている手順は、指定された要素が一方の層に存在し、もう一方の層には存在しない層間の境界面を持つ任意の層状サンプルに適用できます。 特に SIMS の場合 (4、5)、および一般的な表面分析 (6、7) の場合、厳密な校正方法のみが正確な界面幅を決定できることが示されています。 このような手順は非常に時間がかかります。 したがって、このガイドで説明されている手順を使用して得られた界面幅の測定値には、重大な系統誤差が含まれる可能性があります (8)。 したがって、この界面幅の測定は、他の方法で行われた同様の測定とは関係がない可能性があります。 ただし、これによって、機器の適切な性能や一貫した性能、あるいはその両方のチェックとしての使用が減ることはありません。 1.1 このガイドは、SIMS 分析者に、層状試料の分析から得られた SIMS スパッタリング データから界面の幅を決定する方法を提供します。 このガイドは、薄いマーカーを備えた試料や、イオン注入された試料などの界面のない試料の分析から得られたデータには適用されません。 1.2 このガイドでは、界面幅の最適化や深さ分解能の最適化方法については説明されていません。 この規格は、その使用に関連する安全上の懸念がある場合には、そのすべてに対処することを目的としています。 適切な安全衛生慣行を確立し、使用前に規制上の制限の適用可能性を判断することは、この規格のユーザーの責任です。
ASTM E1438-06 規範的参照
- ASTM E673 表面解析に関する標準用語
ASTM E1438-06 発売履歴
- 2019 ASTM E1438-11(2019) SIMS を使用したスパッタリング深さプロファイルの界面幅を測定するための標準ガイド
- 2011 ASTM E1438-11 SIMS を使用してスパッタ深さプロファイル界面幅を測定するための標準ガイド
- 2006 ASTM E1438-06 二次イオン質量分析法 (SIMS) によるディープドーピングプロファイルの界面幅測定の標準ガイド
- 1991 ASTM E1438-91(2001) 二次イオン質量分析法（SIMS）による界面形成スパッタリング深さの幅の測定
- 1991 ASTM E1438-91(1996) 二次イオン質量分析法（SIMS）による界面形成スパッタリング深さの幅の測定
