ASTM E1438-91(1996)
二次イオン質量分析法（SIMS）による界面形成スパッタリング深さの幅の測定

規格番号

ASTM E1438-91(1996)

制定年

1991

出版団体

American Society for Testing and Materials (ASTM)

状態

入れ替わる

に置き換えられる

ASTM E1438-91(2001)

最新版

ASTM E1438-11(2019)

範囲

1.1 このガイドは、SIMS 分析者に、層状試料の分析から得られた SIMS スパッタリング データから界面の幅を決定する方法を提供します。 このガイドは、薄いマーカーを使用した試料や、イオン注入された試料などの界面のない試料の分析から得られたデータには適用されません。 1.2 このガイドでは、インターフェース幅の最適化や深さ解像度の最適化の方法については説明しません。 1.3 この規格は、その使用に関連する安全上の問題がある場合、そのすべてに対処することを目的とするものではありません。 適切な安全衛生慣行を確立し、使用前に規制上の制限の適用可能性を判断することは、この規格のユーザーの責任です。

ASTM E1438-91(1996) 発売履歴

• 2019 ASTM E1438-11(2019) SIMS を使用したスパッタリング深さプロファイルの界面幅を測定するための標準ガイド
• 2011 ASTM E1438-11 SIMS を使用してスパッタ深さプロファイル界面幅を測定するための標準ガイド
• 2006 ASTM E1438-06 二次イオン質量分析法 (SIMS) によるディープドーピングプロファイルの界面幅測定の標準ガイド
• 1991 ASTM E1438-91(2001) 二次イオン質量分析法（SIMS）による界面形成スパッタリング深さの幅の測定
• 1991 ASTM E1438-91(1996) 二次イオン質量分析法（SIMS）による界面形成スパッタリング深さの幅の測定