ISO 16413:2020 X線反射率測定による膜厚密度と界面幅の評価 - 機器の位置合わせと位置決めが必要データ収集データ分析とレポート作成規格と仕様

範囲: この文書では、X 線反射率測定法 (XRR) を使用して、平らな基板上の厚さ約 1 nm ～ 1 μm の単層および多層薄膜の厚さ、密度、界面幅を評価する方法を規定しています。この方法では、単色の平行ビームを使用し、角度または散乱ベクトルのいずれかをスキャンします。同様の考慮事項は、分散型検出器を使用した並列データ収集による収束ビームの場合や走査波長にも当てはまりますが、これらの方法についてはここでは説明しません。拡散 XRR について言及されており、実験の要件も同様ですが、これについては本書では取り上げません。測定は、実験室の機器から放射光ビームラインの反射率計や産業で使用される自動システムに至るまで、さまざまな構成の機器で行うことができます。データ収集中に層が最終的に不安定になり、測定結果の精度が低下する可能性があることに注意する必要があります。単一波長で実行される XRR では層に関する化学情報が得られないため、試料表面での可能性のある汚染や反応に注意を払う必要があります。最外層の結果の精度は、表面の変化に大きく影響されます。注 1 独自の技術については、この文書では説明しません。

ISO 16413:2020 発売履歴

2020 ISO 16413:2020 X線反射率測定による膜厚密度と界面幅の評価 - 機器の位置合わせと位置決めが必要データ収集データ分析とレポート作成
2013 ISO 16413:2013 X線反射率測定で使用される薄膜の厚さ、密度、界面幅の評価、機器の設置、校正と位置決め、データ収集、データ分析とレポート作成