ASTM E1162-11(2019)
二次イオン質量分析法 (SIMS) でスパッタ深さプロファイル データをレポートするための標準的な手法

規格番号

ASTM E1162-11(2019)

制定年

2019

出版団体

American Society for Testing and Materials (ASTM)

最新版

ASTM E1162-11(2019)

範囲

1.1 この実践では、機器、試料パラメータ、実験条件、およびデータ削減手順の説明と報告に必要な情報をカバーします。 SIMS スパッタ深さプロファイルは、さまざまな一次ビーム励起条件、質量分析、データ取得、および処理技術 (1 ～ 4) を使用して取得できます。 2 1.2 制限事項 - この実践は、情報が平均化される従来のスパッタ深さプロファイルに限定されます。 試験片の平面内の分析領域全体にわたって。 画像深さプロファイリングなど、分析領域内の二次イオンの横方向の空間分解能を可能にするイオン マイクロプローブまたは顕微鏡技術は除外されます。 1.3 SI 単位で記載された値は標準とみなされます。 この規格には他の測定単位は含まれません。 1.4 この規格は、その使用に関連する安全上の懸念がある場合、そのすべてに対処することを目的とするものではありません。 適切な安全、健康、および環境慣行を確立し、使用前に規制上の制限の適用可能性を判断するのは、この規格のユーザーの責任です。 1.5 この国際規格は、世界貿易機関貿易技術障壁 (TBT) 委員会によって発行された国際規格、ガイドおよび推奨事項の開発のための原則に関する決定で確立された、国際的に認められた標準化原則に従って開発されました。

ASTM E1162-11(2019) 規範的参照

• ASTM E673 表面解析に関する標準用語

ASTM E1162-11(2019) 発売履歴

• 2019 ASTM E1162-11(2019) 二次イオン質量分析法 (SIMS) でスパッタ深さプロファイル データをレポートするための標準的な手法
• 2011 ASTM E1162-11 二次イオン質量分析法 (SIMS) でスプラッシュ深さファイル データをレポートするための標準的な方法
• 2006 ASTM E1162-06 二次イオン質量分析法 (SIMS) でスパッタ深さ断面データを報告するための標準的な手法
• 1987 ASTM E1162-87(2001) 二次イオン質量分析法 (SIMS) でのスパッタ深さ断面データのレポート
• 1987 ASTM E1162-87(1996) 二次イオン質量分析法 (SIMS) でのスパッタ深さ断面データのレポート