JIS K 0164:2023
シリコン中のホウ素の深さ分析のための表面化学分析二次イオン質量分析法

規格番号

JIS K 0164:2023

制定年

2023

出版団体

Japanese Industrial Standards Committee (JISC)

最新版

JIS K 0164:2023

JIS K 0164:2023 発売履歴

• 2023 JIS K 0164:2023 シリコン中のホウ素の深さ分析のための表面化学分析二次イオン質量分析法
• 2010 JIS K 0164:2010 表面化学分析 再生イオン質量の分光測定 シリコン中のホウ素を深くプレスする方法