ASTM B567-98(2014)
ベータ線後方散乱法による膜厚測定の標準試験方法

規格番号
ASTM B567-98(2014)
制定年
1998
出版団体
American Society for Testing and Materials (ASTM)
状態
に置き換えられる
ASTM B567-98(2021)
最新版
ASTM B567-98(2021)
範囲
4.1 コーティングの厚さまたは単位面積あたりの質量は、多くの場合、その性能にとって重要です。 4.2 一部のコーティングと基材の組み合わせでは、ベータ後方散乱法がコーティングを非破壊的に測定するための信頼できる方法です。 4.3&# 単位面積あたりの質量が指定されている場合、この試験方法は厚さの仕様の承認に適しています。 コーティングの厚さが指定されていて、コーティング材料の密度が変動する可能性があるか不明な場合は、仕様の承認には適していません。 1.1&# この試験方法は、金属および非金属の両方の基板材料上の金属および非金属コーティングの非破壊測定のためのベータ後方散乱ゲージを対象としています。 1.2 この試験方法では、単位面積あたりのコーティングの質量を測定します。 コーティングの密度が既知であれば、これを線厚単位で表すこともできます。 1.3 この試験方法は、コーティングと基材の原子番号または同等の原子番号が適切な量だけ異なる場合にのみ適用されます (6.2 を参照)。 1.4 ベータ後方散乱装置は、多数の異なる放射性同位体を使用します。 これらの同位体の放射能は通常非常に低いですが、取り扱いを誤ると危険を引き起こす可能性があります。 この規格は、安全性の問題や放射性物質の適切な取り扱いに対処することを目的としたものではありません。 放射性物質の取り扱いと使用に関して適用される州および連邦の規制を遵守するのはユーザーの責任です。 一部の州では、放射性同位体の認可と登録が必要です。 1.5&# SI 単位で記載された値は標準とみなされます。 この規格には他の測定単位は含まれません。 1.6&# この規格は、その使用に関連する安全上の懸念がある場合、そのすべてに対処することを目的とするものではありません。 適切な安全衛生慣行を確立し、使用前に規制上の制限の適用可能性を判断することは、この規格のユーザーの責任です。

ASTM B567-98(2014) 発売履歴

  • 2021 ASTM B567-98(2021) ベータ線後方散乱法による膜厚測定の標準試験方法
  • 1998 ASTM B567-98(2014) ベータ線後方散乱法による膜厚測定の標準試験方法
  • 1998 ASTM B567-98(2009a) ベータ線後方散乱法による膜厚測定の標準試験方法
  • 2009 ASTM B567-98(2009) ベータ後方散乱法による膜厚の標準試験方法
  • 1998 ASTM B567-98(2003) ベータ線後方散乱法による膜厚測定の標準試験方法
  • 1998 ASTM B567-98 ベータ線後方散乱法による膜厚測定の標準試験方法
ベータ線後方散乱法による膜厚測定の標準試験方法



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