DS/EN 62226-3-1:2008
低・中周波数領域の電界または磁界への曝露 人体の誘導電流密度と内部電界の計算方法 その3-1：電界曝露解析と二次元数値m

規格番号

DS/EN 62226-3-1:2008

制定年

2008

出版団体

Danish Standards Foundation

最新版

DS/EN 62226-3-1:2008

範囲

IEC 62226 のこの部分は、電界および磁界にさらされたときの人体における電圧または電流の誘導に基づいて暴露制限が設定される周波数範囲に適用されます。 この部分は、IEC 62226 シリーズによって導入された結合係数 K を詳細に定義します。 均一な電場にさらされる人体の単純なモデルの場合、不均一な磁場や乱れた電場などの複雑な暴露状況の暴露評価を可能にします。 結合係数 K は、電界曝露に関連するか磁界曝露に関連するかに応じて、異なる物理的解釈を持ちます。 それはいわゆる「e の形状係数」です。

DS/EN 62226-3-1:2008 発売履歴

• 2008 DS/EN 62226-3-1:2008 低・中周波数領域の電界または磁界への曝露 人体の誘導電流密度と内部電界の計算方法 その3-1：電界曝露解析と二次元数値m