ANSI/NFPA 318-2011
半導体製造装置の保護基準

規格番号

ANSI/NFPA 318-2011

制定年

2011

出版団体

American National Standards Institute （ANSI)

最新版

ANSI/NFPA 318-2011

範囲

1.1 範囲。 この規格は、危険な化学物質が使用、保管、取り扱われ、本明細書でクリーンルームまたはクリーンゾーン、またはその両方として定義される場所を含む研究開発エリアを含む、半導体製造施設および同等の製造プロセスに適用されます。

ANSI/NFPA 318-2011 発売履歴

• 2011 ANSI/NFPA 318-2011 半導体製造装置の保護基準