YS/T 718-2009
平面マグネトロンスパッタリングターゲット、光学薄膜用ニオブターゲット (英語版)

規格番号
YS/T 718-2009
言語
中国語版, 英語で利用可能
制定年
2009
出版団体
Professional Standard - Non-ferrous Metal
最新版
YS/T 718-2009
範囲
この規格は、平面マグネトロンスパッタリング光学膜に使用されるニオブターゲットの要件、試験方法、検査規則、マーキング、梱包、輸送、保管、注文書(契約)内容を規定しています。 この規格は、平面マグネトロン スパッタリング光学薄膜用のニオブ ターゲットに適用されます。

YS/T 718-2009 規範的参照

  • GB/T 15706 機械の安全性 設計の一般原則 リスク評価とリスク軽減*2012-11-05 更新するには
  • GB/T 2040-2008 銅及び銅合金板
  • GB/T 3630-2006 ニオブシート、ストリップおよびホイル
  • GB/T 5231-2001 銅及び銅合金の加工化学成分と製品形状
  • GB/T 6394-2002 金属の平均粒径の測定方法

YS/T 718-2009 発売履歴

  • 2009 YS/T 718-2009 平面マグネトロンスパッタリングターゲット、光学薄膜用ニオブターゲット
平面マグネトロンスパッタリングターゲット、光学薄膜用ニオブターゲット



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