YS/T 519.4-2009
ヒ素の化学分析方法 パート 4: ビスマス、アンチモン、硫黄含有量の測定 誘導結合プラズマ原子発光分析法 (英語版)

規格番号

YS/T 519.4-2009

言語

中国語版, 英語で利用可能

制定年

2009

出版団体

Professional Standard - Non-ferrous Metal

最新版

YS/T 519.4-2009

交換する

YS/T 519.4-2006

範囲

警告: ヒ素とその化合物は有毒であり、取り扱いや取り扱いには特別な注意が必要です。 YS/T 519 のこの部分では、ヒ素中のビスマス、アンチモン、硫黄の定量方法が規定されています。 このセクションは、ヒ素中のビスマス、アンチモン、硫黄の定量に適用されます。 測定範囲：ビスマス 0.01%～0.25%、アンチモン 0.01%～0.65%、硫黄 0.005%～0.60%。

YS/T 519.4-2009 発売履歴

• 2009 YS/T 519.4-2009 ヒ素の化学分析方法 パート 4: ビスマス、アンチモン、硫黄含有量の測定 誘導結合プラズマ原子発光分析法
• 2006 YS/T 519.4-2006 ヒ素の化学分析法：ジチオジアンチピリン系メタン測光法によるビスマス含有量の定量