ASTM F1709-97(2008)
電子薄膜用高純度チタンスパッタリングターゲットの標準仕様

規格番号

ASTM F1709-97(2008)

制定年

1997

出版団体

American Society for Testing and Materials (ASTM)

状態

入れ替わる

に置き換えられる

ASTM F1709-97(2016)

最新版

ASTM F1709-97(2016)

範囲

1.1 この仕様は、半導体電子デバイスの製造の原材料として使用される純チタンスパッタリングターゲットを対象としています。 1.2 この規格は、純度グレードレベル、物理的特性、分析方法、および包装を設定します。 1.2.1 等級指定は、金属不純物の総含有量の尺度です。 総金属不純物以外の要因が性能に影響を与える可能性があるため、グレードの指定は必ずしも特定の用途への適合性を示すものではありません。

ASTM F1709-97(2008) 発売履歴

• 2016 ASTM F1709-97(2016) 電子薄膜用高純度チタンスパッタリングターゲットの標準仕様
• 1997 ASTM F1709-97(2008) 電子薄膜用高純度チタンスパッタリングターゲットの標準仕様
• 1997 ASTM F1709-97(2002) 電子薄膜用高純度チタンスパッタリングターゲットの標準仕様
• 1996 ASTM F1709-97 電子薄膜用高純度チタンスパッタリングターゲットの標準仕様