ASTM F996-98(2003)
サブスレッショルドアンペアボルト特性を使用して、酸化ホールおよび界面状態による電離放射線誘起金属酸化物半導体電界効果トランジスタのしきい値電圧シフト成分を決定するための標準的な試験方法

規格番号

ASTM F996-98(2003)

制定年

1998

出版団体

American Society for Testing and Materials (ASTM)

状態

入れ替わる

に置き換えられる

ASTM F996-10

最新版

ASTM F996-11(2018)

範囲

ゲート酸化物とフィールド酸化物の電気的特性は、電離放射線によって変化します。 電離放射線の時間依存性および線量率の影響は、照射前と照射後の電圧シフト、「Vot」および「」を比較することによって決定できます。 ビタミン。 このテスト方法は、MOSFET および絶縁寄生 MOSFET の電離放射線応答を評価する手段を提供します。 測定された電圧シフト、「Vot」および「」 Vit は、電離放射線応答における処理変動の有効性の尺度を提供できます。 この技術は、プロセス技術の総線量応答を監視するために使用できます。 1.1 この試験方法は、金属酸化物半導体フィールドにおけるゲート誘電体の電離放射線劣化を分析するためのサブスレッショルド電荷分離技術の使用を対象としています。 効果トランジスタ (MOSFET) と寄生 MOSFET の絶縁誘電体。 サブスレッショルド技術は、電離放射線に起因する反転電圧シフト V INV を、酸化物トラップ電荷による電圧シフト Vot と界面トラップ Vit に分離するために使用されます。 この技術では、照射前および照射後の MOSFET サブスレッショルド領域におけるドレインからソースへの電流対ゲート電圧の特性を使用します。 1.2 MOSFET のサブスレッショルド電流電圧特性の測定手順と結果の計算手順を示します。 1.3 このテストの応用この方法では、MOSFET に基板 (ボディ) コンタクトが必要です。 1.4 照射前および照射後の MOSFET のサブスレッショルド ソースまたはドレイン曲線は、少なくとも 20 年間の電流の間、ゲート電圧に対する指数関数的な依存性に従う必要があります。 1.5 SI 単位で与えられた値は標準とみなされます。 この試験方法には他の測定単位は含まれません。 1.6 この規格は、その使用に関連する安全上の懸念がある場合でも、そのすべてに対処することを目的とするものではありません。 適切な安全衛生慣行を確立し、使用前に規制上の制限の適用可能性を判断することは、この規格のユーザーの責任です。

ASTM F996-98(2003) 発売履歴

• 2018 ASTM F996-11(2018) サブスレッショルド電流成分を使用して、酸化物トラップ ホールおよび界面状態に起因する MOSFET の電離放射線誘発しきい値電圧シフトを分離するための標準的なテスト方法、電圧特性
• 2011 ASTM F996-11 亜臨界ボルタンメトリー特性を使用して、酸化ホールおよび界面特性に起因する電離放射線誘起金属酸化物半導体電界応答トランジスタにおける臨界電圧シフトの成分を決定するための標準的な試験方法
• 2010 ASTM F996-10 サブスレッショルドアンペア電圧特性を使用して、酸化ホールと界面状態による金属酸化膜半導体電界効果トランジスタの電離放射線誘発しきい値電圧シフトを分離するための標準的なテスト方法
• 1998 ASTM F996-98(2003) サブスレッショルドアンペアボルト特性を使用して、酸化ホールおよび界面状態による電離放射線誘起金属酸化物半導体電界効果トランジスタのしきい値電圧シフト成分を決定するための標準的な試験方法
• 1998 ASTM F996-98 サブスレッショルドアンペアボルト特性を使用して、酸化ホールおよび界面状態による電離放射線誘起金属酸化物半導体電界効果トランジスタのしきい値電圧シフト成分を決定するための標準的な試験方法