BS IEC 61745:1998
光ファイバー幾何検査装置校正用端面画像解析プログラム

規格番号

BS IEC 61745:1998

制定年

1999

出版団体

British Standards Institution (BSI)

状態

入れ替わる 1999-04

に置き換えられる

BS IEC 61745:1999

最新版

BS IEC 61745:1999

交換する

96/209708 DC:1996

範囲

研究および生産環境では、光ファイバーの形状を特徴付けるためのさまざまな試験方法が存在します。 さらに、各試験方法は、完全な幾何学的特性評価に必要な多くのパラメータのうちの 1 つ以上を決定する場合があります。 この国際規格は、ニアフィールド分析またはグレースケール分析としても知られる端面画像分析を実行するテスト セットの校正について説明しています。 ただし、この原則は別のタイプのテスト セットにも適用できます。 この規格は、シングルモード ファイバのみで行われる測定の校正に対処します。 ただし、このタイプのテスト セットはマルチモード ファイバのコアの幾何学的パラメータの測定にも使用できますが、これらの測定に関連する不確実性の評価はこの規格の範囲を超えています。 概要を説明した手順は、幾何学テスト セットの校正および校正済みのテスト セットで行われた測定の不確かさを評価する目的で、校正研究所および幾何学テスト セットの製造者またはユーザーによって実行されます。 ファイバー コーティングまたはケーブル測定テスト セットの校正は、この規格の対象外です。 この規格の目的は、光ファイバーのガラス形状を測定するためのテスト セットの校正の標準手順を定義することです。

BS IEC 61745:1998 発売履歴

• 1999 BS IEC 61745:1999 光ファイバー幾何検査装置校正用端面画像解析プログラム
• 1999 BS IEC 61745:1998 光ファイバー幾何検査装置校正用端面画像解析プログラム