GB/T 17169-1997
シリコン研磨ウェーハおよびエピタキシャルウェーハの表面品質の光反射試験方法 (英語版)

規格番号

GB/T 17169-1997

言語

中国語版, 英語で利用可能

制定年

1997

出版団体

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China

状態

撤回

最新版

GB/T 17169-1997

範囲

この規格は、半導体シリコン研磨ウェーハおよびエピタキシャルウェーハの表面にある一般的な欠陥に対する光反射非破壊検査方法を規定しています。 この規格は、半導体シリコン研磨ウェーハおよびエピタキシャルウェーハの表面品質の非破壊検査に適用されます。 この規格のテスト結果は、GB/T6624 および GB/T14142 のテスト結果と一致しています。

GB/T 17169-1997 発売履歴

• 1997 GB/T 17169-1997 シリコン研磨ウェーハおよびエピタキシャルウェーハの表面品質の光反射試験方法