GB/T 16595-1996
ウェーハ用のユニバーサルグリッド仕様 (英語版)
- 規格番号
- GB/T 16595-1996
- 言語
- 中国語版, 英語で利用可能
- 制定年
- 1996
- 出版団体
- General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China
- 状態
- 2020-02
- に置き換えられる
- GB/T 16595-2019
- 最新版
- GB/T 16595-2019
- 範囲
- この規格は、公称円形半導体ウェーハの表面欠陥を定量的に記述するために使用できるグリッド パターンを指定します。 グリッドはほぼ等しい面積のグリッド ユニットを 1000 個含むように規定されており、各グリッド ユニットは検査対象表面の固定高品質領域の総面積の 0.1% に相当します。 不均一に分布した表面欠陥（スリップなど）は、欠陥のあるウェーハ表面の面積パーセント（または有効面積パーセント）に基づいて定量化できます。 ウェーハ欠陥パターン上の透明なグリッドを覆うか、観察されたウェーハ欠陥パターンをグリッド上にマッピングし、欠陥の面積を定量化し、欠陥を含むグリッド セルの数を計算します。 セルの数を 10 で割った値は、欠陥領域の割合に相当します。 グリッドは、CRT モニター、写真、またはコンピュータで生成した図に重ね合わせることができます。 使用する場合、グリッドの直径は、カバーされるウェハー パターンまたはイメージのサイズに比例する必要があります。 グリッドはウェーハの中心に配置されます。 GB/T12964 または SEMIM1 で規定されているウェーハの公称直径に従って、「固定高品質領域」の概念が使用されます。 エピタキシャル層上のスリップおよびその他の不均一に分布した欠陥の最大許容値は、GB/T14139、SEMIM2、および SEMIM11 で指定され、GB/T6624、GB/T14142、および YS/T209 に従って観察されます。
GB/T 16595-1996 発売履歴
- 2019 GB/T 16595-2019 ウェーハ用のユニバーサルグリッド仕様
- 1996 GB/T 16595-1996 ウェーハ用のユニバーサルグリッド仕様
