DIN 50455-1:1991
半導体プロセス材料の検討 フォトレジストの特性評価方法 第 1 部：光学測定法による膜厚の決定

規格番号

DIN 50455-1:1991

制定年

1991

出版団体

German Institute for Standardization

状態

撤回 2009-10

に置き換えられる

DIN 50455-1:2009

最新版

DIN 50455-1:2009-10

範囲

この規格は、コーティングの厚さを決定することによってフォトレジストの特性評価を可能にする方法を定義しています。

DIN 50455-1:1991 発売履歴

• 2009 DIN 50455-1:2009-10 半導体技術材料試験フォトレジスト特性評価方法パート 1: 光学的方法によるコーティング厚さの決定
• 2009 DIN 50455-1:2009 半導体技術で使用する材料のテスト フォトレジストの特性評価方法 パート 1: コーティング厚さの光学的決定
• 1991 DIN 50455-1:1991 半導体プロセス材料の検討 フォトレジストの特性評価方法 第 1 部：光学測定法による膜厚の決定