GB/T 6621-1995
シリコン研磨ウェーハの表面平坦度試験方法 (英語版)
- 規格番号
- GB/T 6621-1995
- 言語
- 中国語版, 英語で利用可能
- 制定年
- 1995
- 出版団体
- General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China
- 状態
- 2010-06
- に置き換えられる
- GB/T 6621-2009
- 最新版
- GB/T 6621-2009
- 範囲
- この規格は、コヒーレント光の干渉現象によりシリコン研磨ウェーハの表面粗さを測定する方法を規定しています。 この規格は、研磨されたシリコンウェーハの表面平坦度の検査や、シリコンエピタキシャルウェーハや鏡面半導体ウェーハの表面平坦度の検査に適しています。
GB/T 6621-1995 発売履歴
- 2009 GB/T 6621-2009 シリコンウェーハの表面平坦性試験方法
- 1995 GB/T 6621-1995 シリコン研磨ウェーハの表面平坦度試験方法
