ASTM F2113-01(2007)
電子薄膜用高純度金属スパッタリングターゲットの純度グレードおよび不純物含有量の分析および報告に関する標準ガイド

規格番号

ASTM F2113-01(2007)

制定年

2007

出版団体

American Society for Testing and Materials (ASTM)

状態

入れ替わる

に置き換えられる

ASTM F2113-01(2011)

最新版

ASTM F2113-01(2011)

ASTM F2113-01(2007) 発売履歴

• 2001 ASTM F2113-01(2011) 薄膜電子デバイス用の高純度金属スパッタターゲットの不純物含有量およびレベルの分析および報告に関する標準ガイド
• 2007 ASTM F2113-01(2007) 電子薄膜用高純度金属スパッタリングターゲットの純度グレードおよび不純物含有量の分析および報告に関する標準ガイド
• 2001 ASTM F2113-01e1 薄膜電子デバイス用の高純度金属スパッタターゲットの不純物含有量およびレベルの分析および報告に関する標準ガイド
• 2001 ASTM F2113-01 電子薄膜用高純度金属スパッタリングターゲットの純度グレードおよび不純物含有量の分析および報告に関する標準ガイド