SJ 20744-1999
半導体材料中の不純物含有量の赤外吸収分光分析に関する一般ガイドライン (英語版)
- 規格番号
- SJ 20744-1999
- 言語
- 中国語版, 英語で利用可能
- 制定年
- 1999
- 出版団体
- Professional Standard - Electron
- 最新版
- SJ 20744-1999
- 範囲
- この規格は、半導体材料中の不純物含有量の赤外吸収分析法について、用語、基本原理、計測機器、試料の調製、測定条件、測定手順、測定結果の計算などを規定しています。 この規格は、赤外スペクトル領域で透明で、この領域に不純物吸収バンドを生成するあらゆる半導体単結晶材料の赤外分析方法に適用できます。
SJ 20744-1999 発売履歴
- 1999 SJ 20744-1999 半導体材料中の不純物含有量の赤外吸収分光分析に関する一般ガイドライン
