DB53/T 421-2012
誘導結合プラズマ発光分光法による工業用シリコン中のホウ素の定量 (英語版)

規格番号

DB53/T 421-2012

言語

中国語版, 英語で利用可能

制定年

2012

出版団体

Yunnan Provincial Standard of the People's Republic of China

最新版

DB53/T 421-2012

範囲

この規格は、誘導結合プラズマ発光分析による工業用シリコン中のホウ素の定量方法を規定しています。 この規格は工業用シリコン中のホウ素の測定に適用され、検出範囲は 0.000 4% ～ 0.017% です。

DB53/T 421-2012 発売履歴

• 2012 DB53/T 421-2012 誘導結合プラズマ発光分光法による工業用シリコン中のホウ素の定量